ASML:DUV光刻机无需美国许可!最新一代EUV光刻机明年发布:加工精度提升至1.1nm

2020-10-15 15:06:26 来源:EETOP整理
10月14日,ASML公布第三季度财报,净销售额高达39.58亿欧元,同比增长32.6%,毛利率为47.5%。
据该公司首席执行官Peter Wennink 介绍,ASML在第三季度一共交付了 10 台 EUV 系统,并在本季度实现了 14 台系统的销售收入。而在第三季度的新增订单达到 29 亿欧元,其中 5.95 亿欧元来自 4 台 EUV 设备。从这个说明我们可以看到,ASML EUV光刻机的售价约为1.48亿欧元,折合人民币11.74亿元。

 
即将出货全新EUV光刻机

ASML还披露他们全新的极紫外光刻机将在明年年中开始出货的,型号为TWINSCAN NXE:3600D。

在财报中,阿斯麦表示他们已经敲定了TWINSCAN NXE:3600D的规格,具体来说,30mJ/c㎡ 的曝光速度达到每小时曝光160片晶圆,提高了18%的生产率,并改进机器匹配套准精度至1.1nm。

值得注意的是,在2019年的年报中,阿斯麦就曾披露他们在研发新一代的极紫外光刻机,但当时他们是计划在2022年年初开始出货,2024或者2025年大规模生产。三季度财报中披露在明年年中开始出货,也就意味着出货时间较原计划提前了半年。

极紫外光刻机是7nm和5nm芯片制程工艺所必不可少的设备,目前全球只有阿斯麦能供应。台积电、三星这两大芯片代工商的制程工艺都已提升到了7nm和5nm,他们所需要的极紫外光刻机也全部仰仗于阿斯麦,全新的TWINSCAN NXE:3600D的首台,预计也会交由这两家代工商中的一家。

3600D定于2021年中旬出货交付,客户还需要一定时间等待,价格应该不会低于现款老型号的1.2亿美元。

目前,ASML已经投产的最先进光刻机是3400C,但主力出货型号是3400B。参数方面,3400B的套刻精度为2nm、曝光速度20mJ/c㎡ ,每小时可曝光125片晶圆。
另外,ASML透露,3400B在三季度也完成了软件升级。全新的DUV光刻机

TWINSCAN NXT:2050i已经在三季度结束验证,四季度早期开始正式出货。
据悉,在截止9月30日的单季度,ASML共获得60台光刻机收入,出货了10台EUV光刻机。

DUV光刻机无需出口许可证
ASML CFO Roger Dassen在财报会议的视频采访中谈到了与中芯国际等中国客户的业务情况。
 

Roger Dassen指出,在中国业务方面,去年中国本土客户为ASML创造了约8亿欧元的销售额,今年将会更多,预计超过10亿欧元。

关于美国有可能对中芯国际采取限制措施,Roger Dassen表示,ASML今年客户以逻辑工艺领域为主,中芯国际则是ASML的主要逻辑工艺领域客户。“我们不会对特定的客户情况进行推测或评论,但总的来说,我们会在法律和法规要求的范围内尽最大的能力继续为客户提供服务,”Roger Dassen如是说。

Roger Dassen进一步指出,ASML了解美国当局目前的规章制度及其解释,当然也知道这些与特定的中国客户密切相关,但如果广泛的来理解其规章制度对ASML的总体含义(对于特定的中国客户),则意味着ASML将能够从荷兰向这些中国客户提供DUV光刻系统,且无需出口许可证。不过,如果涉及直接从美国运往此类客户的零件或系统,ASML则需要为此申请出口许可证。
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